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玻璃表面蚀刻纹路由于5G时代玻璃手机后盖流行成为趋势，预测大部分中高端机型将采用玻璃作为手机的后盖板。因此，基于玻璃材质的微加工工艺也就成为CMF研究中不可回避的一个技术问题。而且，由玻璃材质的特殊性，南通耐高压K9玻璃 供应商，利用蚀刻方式对玻璃表面进行各种纹路的加工越来越被人们所重视。研究这种玻璃表面微蚀刻加工就成为比较重要的一项课题，南通耐高压K9玻璃 供应商，南通耐高压K9玻璃 供应商。在玻璃表面通过蚀刻的方式加工出线宽线距甚至深度的方法就成为非常重要的一个工艺环节。当前，普通玻璃微蚀刻普遍采用湿法刻蚀，采用46%的氟酸作为刻蚀剂在30℃的温度下进行玻璃材质的电泳芯片刻蚀，刻蚀速度较高，表面质量不佳;还有采用1%的氟酸和5%的作为刻蚀剂对玻璃微管道进行刻蚀,刻蚀温度为65℃南通耐高压K9玻璃 供应商

玻璃黏度与成分的关系较为复杂，成分中各种氧化物对玻璃黏度的影响不仅取决于氧化物自 身的性质，还与其在玻璃中的加人量和玻璃的组成系统有关。当引入Si02、A1203、ZrQ和ThQ等氧化物时，由于阳离子电荷多、离子半径小，作用势场较 大，在结构中倾向于形成更为复杂巨大的阴离子团，使黏滞活化能增大，导致玻璃熔体的黏度增大。 玻璃的组成系统中引人U20、Na2〇、K20和Cs20等碱金属氧化物时，由于阳离子电价低、 离子半径较大，与O2—的作用力较小，因而能提供“游离氧”，使原来结构复杂的硅氧阴离子团发生解聚，从而使黏滞活化能减小，熔体黏度也随之降低。南通耐高压K9玻璃 供应商

微刻蚀时，由于希望采用较高的刻蚀速率,所以对保护膜在刻蚀溶液中长时间浸泡下的耐腐蚀性提出了较高的要求,但是由于工艺的较开始要镀一层保护膜,接着要腐蚀出窗口，所以要求镀膜的致密性比较好,而且要有腐蚀液。所以选择了光刻胶，铬,光刻胶加铬,氮化硅,ITO、抗酸油墨等多种材料作为基底材料玻璃的抗腐蚀保护掩膜,并利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,确定了不同材料保护膜的适用范围。

理想弹性体的应力和应变关系完全服从胡克定律，而实际弹性体即使在弹性范围内也存在非 弹性现象。例如，当材料受到应力作用时，发生的瞬时应变只是总应变的一部分，随着应力作用 时间的延长，补充应变继续产生，直至达到平衡应变值，这种现象称为弹性蠕变。去除应力时， 应变不会立即消失，而是先消失一部分，剩余的应变随时间延长再逐渐消失，这种现象称为弹性 后效。弹性蠕变和弹性后效都是弹性范围内的非弹性现象，即滞弹性，也称为应变弛豫。表征材 料的应变是指应力去除后能够恢复，但不是立即恢复的能力。

玻璃湿法刻蚀流程图如图1所示。将玻璃基底表面拋光,在拋光面镀一层保护掩膜,然后甩光刻胶 AZ4620,胶厚5，经过100 °前烘,光刻,显影,利用腐蚀液除去图形内暴露部分的膜层,完毕后清洗表面并做坚膜处理,坚膜温度为120 °,恒温4 h,坚膜后将进行刻蚀,根据不同需要调配刻蚀剂进行刻蚀，刻蚀温度、搅拌速度等参数也随不同的管道尺寸及刻蚀深度要求而具体设置,刻蚀完成后清洗玻璃并去除光 刻胶及铬层。南通耐高压K9玻璃 供应商

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将氟酸、或和水按一定的浓度比调配刻蚀剂100ml,放入塑料容器内，利用水浴恒温, 采用叶片式搅拌器加以搅拌,每刻蚀20 min清洗并检测。利用电镜观察通道表面的刻蚀效果，同时观察两种刻蚀剂对基底的刻蚀效率和对基底表面保护膜的破坏作用，同时观察不同尺寸的毛细管的深度方向的 刻蚀速率和侧向钻蚀速率。要对玻璃进行湿法刻蚀 , 主要采用两种腐蚀液 , 一种为氟酸加(HF+ HNO3+ H2O),所以采用的保护膜材料必须能对酸有抗腐蚀性能。考虑到镀膜工艺的成熟性以及较后去膜的方便,选用了四种材料(光刻胶，铬,氮化硅，ITO)作为玻璃表面的抗腐蚀保护膜。南通耐高压K9玻璃 供应商

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